免费论文摘要：纳米压印平行瞄准体例的要害本领接洽

本课题的接洽实质重要根源于国度天然科学基金宏大接洽安置培养名目“具备压印力解耦功效的新式纳米压印平行瞄准体例要害本领接洽（名目接受号：91023036）”。 纳米压印是一种新兴的微纳加工本领，它运用一块带有一定坎坷构造的沙盘，经过板滞挤压的方法使光刻胶弥补沙盘，赢得所需的微纳构造。与保守光学光刻本领比拟，纳米压印本领是一种纯板滞的加工本领，制止了光学暴光中的衍射和散射感化，不妨实行10nm以次的加工辨别率。其余，纳米压印本领还具备工艺大略、本钱低的特性，在LED表露、光学、高密度保存以及微型计算机电体例等范围有普遍的运用远景。 纳米压印进程中，沙盘与基板的平行瞄准本能是纳米压印摆设的要害目标，是感化加工品质的要害成分。惯例的平行瞄准体例常常运用柔性组织实行压印沙盘与基板平行缺点的被迫积累。在这种安排中，鉴于柔性组织的精细平行瞄准单位承托沙盘，并径直接受压印力的效率。当生存平行缺点时，在不平均压印力的效率下，平行瞄准单位爆发被迫变形，取消沙盘与基板不屈行缺点。但是，柔性组织因为刚度有限而不许在大压印力下平常处事。 本课题在深刻接洽纳米压印加工工艺的普通上，提出并安排了一种新式纳米压印平行瞄准体例，实行了压印力与精细瞄准组织的解耦，克复了大压印力对平行瞄准本能形成的反面感化。环绕这个题目，正文实行了以次几项处事： 第一，舆论回忆了纳米压印的加工工艺，运用广义麦克斯韦模子对热塑性光刻胶的粘弹性状况举行表征，从表面上得出了光刻胶弥补深度与压印功夫的依附联系，并鉴于有限元领会法，对光刻胶的受力变形进程举行了模仿，为平行瞄准体例的安排供给了表面按照。 第二，回忆暂时纳米压印平行瞄准道理生存的题目，在此普通上提出了一种具备压印力解耦个性的平行瞄准体例，该体例重要囊括一个具备高刚度的球状气浮轴承和一个能将积极与被迫瞄准功效一体化的串联柔性组织。其革新点在乎，球状气浮轴承不妨将不平均压的印力领会为一个笔直的力重量和一个绕球心的力偶重量，笔直重量被传播到高刚性构造，而力偶重量则由球状气浮轴承无冲突地传播到柔性组织，用来平行缺点的被迫积累。 第三，鉴于Navier-Stokes方程，推导出球状气浮轴承的表面建立模型和参数优化，并经过试验进一步考证了气浮轴承的装载力与刚度个性。为了革新气浮轴承在低载荷情景下的刚度，安排了一种可调的磁力预载构造，运用电磁仿真软硬件对磁力举行了领会。 第四，对纳米压印进程的压印力平均性举行了接洽，鉴于散布式压印力丈量，提出了鉴于两轴曲线电机的压印力平均性遏制算法，经过试验考证了本领的可行性。 结果，依附所安排的平行瞄准体例，搭建了热压印试验原型机。在1200N的压印力下，实行了总表面积为10mm×10mm 、周期为500nm的光栅构造创造，且具备十分高的保真度。这表白，该平行瞄准体例胜利地实行了压印力解耦，保护了在大压印力情况下的真实处事状况。

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