免费论文摘要：带状等离子体体过滤法治备高结协力类金刚石碳膜工艺接洽

  在稠密新式碳资料中，类金刚石地膜因其高硬度、低冲突系数、高热导率、低介电常数、崇高的抗磨本能、杰出的光学透过性和化学惰性以及底栖生物相容性等崇高本能，在寰球范畴内获得普遍关心和接洽。 正文是在普及类金刚石地膜（Diamond-like carbon Films：DLC）硬度的普通上，赢得与基体具备杰出的贯串强度的类金刚石膜。本文华用过滤式带状等离子体体本领在高速钢基体上制备了DLC膜，接洽了带状等离子体体物理个性在弯管出口的散布顺序；领会了离子注入预处置本领和过度层构造对 DLC 膜硬度和膜基贯串本能的感化；沿用纳米压痕法尝试了地膜的硬度、Raman光谱尝试了地膜的构造、洛氏压痕法领会了 DLC 地膜与基体的贯串强度。重要接洽截止如次： 经过朗缪尔探针法尝试90°矩形磁过滤弯管出口的等离子体体密度散布，创造弯管外侧比内侧带状等离子体体密度高；经过法拉第杯法尝试了90°矩形磁过滤弯管出口的等离子体体能量散布，创造弯管外侧等离子体体离子能量比弯管内侧高。接洽了弯管出口各别场所的DLC地膜的厚薄和构造，发此刻等离子体体密度较高的弯管外侧DLC地膜厚薄较厚；在等离子体体能量较高的弯管外侧，DLC地膜的sp3杂化键含量较高。运用K型热电偶尝试了作件架邻近的等离子体体温度随DLC地膜堆积功夫的变革顺序，创造当DLC地膜贯串堆积胜过10min，等离子体体温度将升到250℃之上，DLC地膜会石墨化以至没辙成膜。 接洽了基体外表C离子注入预处置工艺参数对DLC地膜本能的感化，创造离子注入电压和注入占空比对DLC地膜的硬度和膜基贯串本能都有很大感化。当注入电压为10kv，注入占空比为0.5%时，不妨赢得高硬度（硬度值可达40GPa）高贯串本能（贯串强度到达HF3）的优质DLC地膜。接洽了含Cr或H的三种过度层Cr/C、Cr/CrN/CrNC/CrC、Cr/CrN/CrNC/CrC/DLC(H)对DLC地膜硬度和膜基结协力的感化，创造梯渡过渡层Cr/CrN/CrNC/CrC和Cr/CrN/CrNC/CrC/DLC(H)的膜层构造使DLC地膜具备较高的硬度，而且大大革新地膜的贯串强度。

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