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IC211是一种具备崇高高温力学本能的Ni3Al基单晶高温合金,但是合金抗高温氧化本能亟待普及。本舆论鉴于课题组前期接洽普通,发展了IC211合金抗1150℃高温氧化防备涂层的接洽,研制了Al-Si/NiAlHf双构造非金属防备涂层,接洽了涂层在1150℃高温下的高温氧化动作及界面阻分散体制。沿用包埋渗和缓相渗两种本领在IC211合金上制备了Al-Si涂层,经过归纳商量涂层相构成、厚薄、工艺宁静性及Si含量,优化了涂层分散渗制备工艺。轮回氧化试验截止表白,该涂层在1100℃具备崇高的抗高温氧化本能及阻分散效率,过程100h氧化后爆发了β-NiAl向γ’-Ni3Al的相变化;涂层在1150℃下仍旧具备阻分散效率,但涂层构造蜕化重要,并且内氧化重要。沿用电子束物理气相堆积法在Al-Si涂层试样上堆积制备了NiAlHf涂层,比拟接洽了Al-Si、NiAlHf、Al-Si/NiAlHf三种涂层在1150℃的高温氧化本能。与简单Al-Si涂层和简单NiAlHf涂层比拟,Al-Si/NiAlHf涂层在1150℃氧化膜成长速度较低,过程150h轮回氧化后,氧化膜没有爆发鲜明剥落,重要由α-Al2O3相构成;Al-Si涂层过程轮回氧化50h后即发端爆发鲜明剥落;NiAlHf涂层过程100h轮回氧化后,外表产生了以α-Al2O3和NiAl2O4相构成的氧化膜,过程110h轮回氧化后,氧化膜发端爆发剥落作废。接洽并揭穿了Al-Si中央层对Al-Si/NiAlHf涂层抗高温氧化动作的效率机理。对于NiAlHf涂层,高温下合金基体中Mo等难熔加强元素外分散加入涂层,产生蒸发性氧化学物理,引导在氧化膜/涂层界面产生孔洞,贬低了氧化膜的黏附性,并加快了氧化膜剥落作废。对于Al-Si/NiAlHf涂层,在氧化前期,NiAlHf涂层中微量Si元素激动了θ-Al2O3向α-Al2O3的变化,普及了热氧化成长层TGO的高温宁静性;同声,Al-Si中央层中Si元素与合金中难熔加强元素Mo产生Mo-Si相,灵验遏止了Mo元素外分散加入NiAlHf外层,普及了氧化膜的黏附性;其余,Mo-Si相不妨遏止NiAlHf涂层中Al元素内分散,减速了涂层构造蜕化,缩小了界面处无益TCP相析出。
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