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跟着光导纤维通讯和集成都电讯工程学院子学的兴盛,人们对通信含量和实行光集成提出愈来愈高的诉求,现有的掺铒光导纤维夸大器(EDFA)和掺铒光带导夸大器(EDWA)仍旧不许满意诉求,亟需拓展它们的增值带宽。所以,接洽不妨在所有石英光导纤维最低耗费带(1.4-1.7 µm)赢得灵验光放射的稀土掺杂宽带发亮资料具备要害的实际意旨和运用价格。 本舆论重要实质囊括经过脉冲激光堆积的本领在硅衬底上制备了各别纳米级构造安排的稀土掺杂氧化铁地膜,并对样本地膜举行了退火处置;辨别经过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)接洽样本地膜的物相和形貌;经过Rutherford背散射领会(RBS)尝试了地膜的因素,并与靶材因素作了比较;应用J-O表面领会了样本的接收谱。辨别沿用He-Cd莱塞(激励射程325 nm)和可调谐钛宝石莱塞(激励射程791 nm)动作激发端接洽了样本地膜的近紫外-看来光和近红外发亮。 因素领会表露稀土平均散布到样本地膜中,物相和形貌领会表露咱们制备地膜基质居于非晶状况,地膜外表润滑,这种状况没有因衬底加热而变换。赶快退火处置和衬底加热不许鲜明革新稀土发亮,经过安排退火前提,咱们在800-850℃退火的样本地膜中获得了灵验的宽带发亮。经过比较接洽各别纳米级构造安排地膜样本的发亮,发此刻膜厚目标对掺稀土发亮层举行纳米级分隔,不妨灵验革新稀土发亮。安排退火温度和Er/Tm对立掺杂浓淡均不妨安排1.53 µm和1.62 µm两峰的对立强度,这对于赢得平整的宽带发亮格外要害。 过程地膜的纳米级构造安排和退火处置,咱们在样本地膜中最后赢得了实足掩盖C+L带的半峰宽(FWHM)达120 nm的宽带发亮。
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