免费论文：SEM-FIB双束体例加工纳米光栅的机理与工艺

  跟着半半导体工艺、集成通路产业的兴盛和生人对微观寰球看法的连接深刻，纳米高科技渐渐变成前沿高科技。纳米加工和丈量本领是纳米科学中一项要害的分支。纳米光栅动作纳米光栅加速率计的中心器件，在高精度加速率丈量上面有宏大的运用远景。因为纳米光栅加工精度对纳米光栅加速率计有很大的感化，所以采用符合的纳米加工本领加工出高精度的纳米光栅特殊要害。         扫描电子显微镜—聚焦离子束（SEM-FIB：Scanning Electronic Microscope and Focused Ion Beam）双束体例，兼具FIB的纳米级加工以及SEM的纳米级成像功效，具有无掩模透彻加工、及时监测的上风，渐渐变成新一代纳米加工本领。正文重要接洽了运用SEM-FIB双束体例加工高精度纳米光栅的机理与工艺。舆论重要接洽实质如次：        开始，引见了SEM、FIB各自的构造、处事道理及功效，在此普通上，领会了SEM-FIB双束体例的构造及处事上风。中心引见双束体例同步处事时，离子束、电子束、样本三者之间的彼此效率机理。         其次，经过试验接洽，领会了感化加工构造的要害参数，并对其举行优化树立，进而矫正加工构造。为获得高超宽比纳米光栅构造，沿用气体扶助离子刻蚀本领举行探痛快接洽，并领会其可行性。        再次，归纳双束体例加工纳米光栅的简直工艺进程，并在此普通上，归结气体扶助离子刻蚀工艺进程。经过屡次考查和连接的参数优化，胜利加工出预期的纳米光栅构造：周期为840 nm，凹槽宽窄423 nm，缺点小于1%，深宽比大于1。         结果，鉴于庄重啮合波表面领会了纳米光栅的衍射个性，并运用Comsol软硬件举行光学仿真。对准刻蚀的纳米光栅，实行了光学试验的安排、试验平台的搭建以及光学本能的尝试，并获得了与预期表面普遍的试验截止。  

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